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根据路透社5月17日消息,美光宣布将向日本投资5000亿日元(约合254.8亿元人民币),用于在未来几年内在日本工厂引入EUV极紫外光刻机,生产DRAM芯片。
日本政府也对本国的半导体产业进行了一系列扶持,计划向美光提供2000亿日元的财政补助。集微网此前报道,美光在日本的工厂位于广岛,该公司将为日本引入首台ASML EUV极紫外光刻机,可以用于生产1-gamma先进制程芯片。此前美光已经于2022年在日本成功量产1-beta 制程DRAM芯片,预计全新的EUV光刻机将于2025年在日本投入生产,用于制造1-gamma DRAM存储芯片。
近年来,日本一直试图努力重振本国的芯片产业,其全球市场份额已从1980年的50%降低至如今的10%。美国作为日本盟友,如今也在努力帮助日本提振芯片制造产业。
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